恭喜 恭喜 金沙js3777入口检测 通过河南省2024年第二批拟认定高新技术企业名单公示https://wap.kjt.henan.gov.cn/2024/11-12/3085277.html

各有关单位：根据《高新技术企业认定管理办法》（国科发火〔2016〕32号）和《高新技术企业认定管理工作指引》（国科发火〔2016〕195号）有关规定，现将河南省2021年第一批认定报备的2676家高新技术企业名单（详见附件）予以公示，公示期为10个工作日。对公示企业有异议的，请在公示期内以实名、书面形式向全国高新技术企业认定管理工作领导小组办公室反映，反映情况须客观真实，以单位名义反映情况的...

KT-1650PVD小型溅射仪使用指南1、 所需配套设备：小型溅射仪，水冷机，真空泵，高纯氩气2、 配套设备安装准备工作     水冷机：（此设备为选配配件）本公司配备水冷机型号JZ-3000.进出水口接口为6mm快插接头，配套6米透明PU管，外径6mm内径4mm 加水6升。建议加入纯水、去离子水，如没有条件加入自来水也可。     若自行准备水冷机，请匹配合适接头安装方法：将设备背面进出水...

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1. 注意选择正确的品牌      一般应当全面衡量生产厂家的产品质量﹑销售价格﹑售后服务﹑技术水平﹑产品特点﹑生产规模﹑企业信誉等因素。相对而言，知名的品牌背后拥有比较可靠的整体实力保证。2   注意选择正确的量程A. 将您需要的流量换算成标准状态下的流量（质量流量）。B. 根据厂家提供的质量流量转换系数表，将您所用气体的质量流量值换算成与氮气（标定气体）等价的质量流量值。如果您希望按您实...

 针对光学和介电功能薄膜制备中的离化率低和靶面污染问题,设计了一种磁控溅射沉积系统,系统包括磁控溅射靶装置、等离子体源和阳极清洗装置。主要结论有:(1)在磁控溅射靶装置设计中,采用磁流体密封替代橡胶轴承密封,提高了靶装置的密封性,极限真空度可达10-6 Pa;采用旋转磁钢代替固定磁钢,使靶材的利用率从30%提高到60%,同时避免了靶装置在预先清洗时的污染;设计了靶装置的驱动端,完成了电机、...

直流负压溅射和直流溅射  在直流溅射中，带正电的离子被吸引到接地的、带负电的溅射靶上，从靶材上溅射出原子，然后这些原子在样品（也称为衬底）上沉积形成薄膜。通常情况下，溅射靶被接到正极，而样品端（衬底）被接到负极或接地。   然而，有些情况下（如反溅射或偏压溅射），样品端会被接到正极以吸引多余的离子，从而实现清洁衬底表面或形成离子轰击确保薄膜和基底的结合强度。这种电源连接方式可以提高薄膜的层内...

等离子清洗实验摘要：研究了等离子清洗对STO瓷片表面及其电容器电学性能的影响。结果表明等离子清洗能大幅改善样品表面清洁度，并对其绝缘电阻和电容值分别有36%和8%的提升。一、等离子清洗二、实验结果三、结论二、实验结果三、结论  研究了等离子清洗对STO绝缘化瓷片表面的影响，并进一步研究了对瓷片电容器（1mm * 1mm）电学性能的影响。结果表明经等离子清洗， STO样品（III-163-16...

塞贝克系数（Seebeck Coefficient）也称为热电偶效应或Seebeck效应，是指两种不同导体（或半导体）材料在一定温差下产生热电动势的现象。塞贝克系数是研究热电材料（将热能转化为电能的材料）非常重要的一个参数，它用来衡量材料在一定温差下产生的热电压。 塞贝克系数的测量方法有很多种，其中一种常用的方法是恒流法。首先准备一个热电偶，它由两种不同材料的导线组成。然后将热电偶的其中一个...

一、磁控溅射原理磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传溅射效率低，电子轰击路径短也会...

问：1.质量流量控制器，为什么以SCCM和SLM为单位？答：从测量原理讲，热式质量流量计是通过利用气体的比热与密度，采用毛细管温差量热法进行测量，流量控制器测量的就是质量流量，但显示出的数值是通用的标况（101325 Pa; 0℃）体积流量。由于一般气体的密度都指标况下的密度，因此直接用体积乘以密度就可以得到所通过气体的质量。SCCM 与 SLM 为体积流量的行业标准单位，代表标况下的体积流...